Équipement Semi-conducteur

Jeol intervient dans l’industrie des semi-conducteurs depuis plus de 40 ans,
avec aussi bien des optiques e-beam et ion-beam conçues pour le contrôle et la modélisation précise.

GAMME D’ÉQUIPEMENTS JEOL

Lithographie par faisceau d’électrons
Lithographie par faisceau d’électrons

Grande gamme d'outils e-beam,
pour les masques, la lithographie écriture directe,
aussi bien pour les gros volumes de production
que pour la recherche avancée et le développement.

Inspection de Wafer par MEB
Inspection de Wafer par MEB

Outils d'examen de masque pour
améliorer la gestion du rendement,
permettant de détecter rapidement les
imperfections
et les défauts rédhibitoires.

Inspection de procédés de précision
Inspection de procédés de précision

Pour réaliser les tests de qualité requis pour
produire des masques de haute performance,
JEOL propose désormais les CD-SEM Holon,
modèles EMU-220 et EMU-330.

JEOL sert l’industrie des semi-conducteurs depuis plus de 40 ans, avec des optiques à faisceau d’électrons ou à faisceau d’ions conçues pour une précision optimale en modélisation et en inspection. Notre dernière génération de machines offre des fonctionnalités avancées qui vous permettront d’utiliser les procédés de demain – gravure en 22nm.

Les équipements semi-conducteur JEOL répondent aux besoins de plus en plus sophistiqués des unités de fabrication et des laboratoires de recherche. Ces solutions de pointe sont soutenues par un support technique 24/7 et un engagement à long terme vis-à-vis de nos clients.